NF3氣體在高能化學(xué)激光、電子工業(yè)(IC)以及太陽(yáng)能光電產(chǎn)業(yè)等方面具有非常廣泛的應用。目前，昊華氣體擁有一條年產(chǎn)2000噸的NF3生產(chǎn)線(xiàn)，其生產(chǎn)工藝、設備均處于國內領(lǐng)先地位。
產(chǎn)品特性
NF3在室溫和大氣壓力下是無(wú)色、穩定和有毒的氣體。相對分子質(zhì)量為71.002，沸點(diǎn)為-129.06℃。
應用說(shuō)明
三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑。